钛媒体 App 10 月 30 日音问，据 ET News，有报谈征引音问东谈主士称，三星电子将从 ASML 引进首台 High-NA EUV 光刻机 EXE:5000开发软件的公司，瞻望 2025 岁首到货。半导体诞生装配时常需要较长测试技术，开发软件的公司该光刻机瞻望最快 2025 年中旬运转运行。High-NA EUV 为 2 纳米以下先进制程所需诞生，韩国业界预期，三星也将适应启动 1 纳米芯片的商用化进度。 ( 财联社 )

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