软件开发公司 Intel：18A工艺残障率相等低 潜在客户正列队
2024-10-12快科技9月8日音讯，Intel日前晓示，18A工艺(等效于1.8nm)证据奏凯且逾越预期，Arrow Lake处分器20A工艺(等效于2nm)版块因此取消，改为外部代工(台积电)。 有报说念称，博通正在测试Intel 18A工艺，然而后果欠安，以致可能取消代工合营。 在德意识银行2024技艺大会上，Intel CEO帕特·基辛格明确暗示：“我相等振作地告诉世界，18A工艺现阶段的残障密度(D0)也曾低于0.4，相等健康。” 所谓残障密度(defect density)，是指每往往厘米晶圆上的残